甩胶机又被称为“匀胶机”，其工作原理就是利用旋转产生的离心力原理，将胶液均匀甩开，平铺到材料表面的一种机械装置。常见于各类对于材料表面涂覆的均匀性有严格要求的实验或者制造领域，例如半导体材料研发和制备工艺，生物材料物性分析，化工材料薄膜的制备工艺等等。
甩胶机的机械装置通过程序调控旋转速度以此来改变离心力大小，并通过滴胶装置控制胶液的流量，来达到制备薄膜所需的厚度，另外薄膜厚度也取决胶液的粘度，涂覆的温度和湿度等环境因素。
该设备广泛应用于MEMS微加工，它可以用来制备厚度小于10 纳米薄膜。也常应用在约1 微米厚光刻胶沉积层的光刻工艺中。注：光刻胶剥离转速通常需要是以每秒20至80转的速度旋转30到60秒才可以。
设备通过调控出不同的旋转速度，使得胶液能够散开达到基底材料的边缘，并达到预定的厚度。所采用的胶液常常是易挥发的，同时也有可能被蒸发掉，因此，旋涂速度越高，所得到的薄膜越薄，当然薄膜的厚度也取决于这种胶液和其比兑的试剂混合后的粘度和浓度等因素。