化学气相沉积炉
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产品名称: 化学气相沉积炉
产品型号: HTT-CVD
产品展商: 其它品牌
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简单介绍
CVD化学气相沉积炉由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。CVD化学气相沉积炉可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
化学气相沉积炉
的详细介绍
主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，*高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的**性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用**可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
主要技术参数：
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SKGL-1200
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控温方式
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采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。
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加热元件
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0Cr27Al7Mo2
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工作电源
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AC220V 50HZ/60HZ
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额定功率
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4KW
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炉管尺寸
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Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
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工作温度
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≤1150℃
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*高温度
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1200℃
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恒温精度
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±1℃
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加热区长度
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440mm或220mm/220mm
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升温速度
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≤20℃/min
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密封方式
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不锈钢快速法兰挤压密封
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ZK-F
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真空范围
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0.1-0.001Pa
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极限真空
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4.0*10^-4Pa
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产品配置
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双级旋片真空泵+分子泵
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测量方式
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复合真空计
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真空规管
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电阻规+电离规
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冷却方式
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风冷
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工作电源
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AC220V 50/60HZ
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抽速
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110L/S
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ZDFC-Ⅲ
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测量范围
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5～1*10^-5 Pa
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稳压(真空)范围
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1～5*10^-3Pa
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压力(真空)稳定精度）
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±3%
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控制范围
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2.5*10^3～1*10^-4 Pa
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控制精度
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± 1%
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HQZ-Ⅲ
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控制方式
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D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
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流量规格
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0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
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线性
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±1%F.S
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准确度
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±1%F.S
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重复精度
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±0.2%F.S.
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响应时间
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≤2sec
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耐压
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3MPa
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气路通道
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3通道（根据客户需求）
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针阀
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316不锈钢
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管道
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Φ6mm不锈钢管
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接口
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SwagelokΦ6mm
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